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蘇州東微半導(dǎo)體股份有限公司公開新型IGBT器件制造方法

天眼查App顯示,蘇州東微半導(dǎo)體股份有限公司于2024年9月29日公開了一項(xiàng)名為“IGBT器件的制造方法”的發(fā)明專利,專利號為CN202411371352.8。該專利由劉偉、王鵬飛、陳鑫和劉磊共同發(fā)明,屬于IGBT器件技術(shù)領(lǐng)域。

該制造方法包括在n型半導(dǎo)體層內(nèi)形成若干個第一溝槽,通過傾斜的離子注入形成溝道注入?yún)^(qū)和p型體區(qū),通過垂直的離子注入形成n型電荷存儲區(qū),并通過自對準(zhǔn)工藝形成第一柵極和第二溝槽。這一方法顯著減少了IGBT器件制造過程中的光刻工藝次數(shù),從而降低了制造成本。

蘇州東微半導(dǎo)體股份有限公司位于江蘇省蘇州市蘇州工業(yè)園區(qū)金雞湖大道99號蘇州納米城西北區(qū)20棟515室,此次公開的專利展示了公司在半導(dǎo)體技術(shù)領(lǐng)域的創(chuàng)新能力。

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